国内靶材行业的发展机遇分析及企业格局 Analysis of Development Opportunities for China's Target Industry

近日，云南省贵金属材料重点实验室成功研发出稀贵金属溅射靶材，打破国外垄断，利好靶材原材料成本的降低。本文着眼于靶材产业链及企业格局的分析，认为有如下因素利好国内靶材企业的发展: 1、下游半导体及面板产业产能转移国内；2、进口靶材免税期年底到期；3、技术突破；4、国家扶持及进口替代。

  一、靶材产业链

  溅射工艺属于物理气相沉积技术的一种，是制备电子薄膜材料的关键技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积 在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

  靶材因其成分、形状和应用领域不同，可以采用不同的分类方法。

二、靶材产业规模

  溅射靶材的市场规模日益扩大，呈现高速增长的势头，2016年全球溅射靶材市场规模约为113.6亿美元，同比2015年增长20%。全球半导体贸易统计协会预测，到2019年全球靶材市场规模将超过163亿美元，17-19年复合增长率达13%。

  2016年全球靶材下游结构分别为平板显示占 34%、记录媒体占 29%、太阳能电池占 21、半导体占比10%。目前，显示、半导体成为拉动靶材需求的主要动力。